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东南大学2025年1至3月政府采购意向-反应离子刻 蚀机 详细情况
2025年01月06日 10:10 来源： 中国政府采购网 【打印】
| 反应离子刻 蚀机 | |
| 项目所在采购意向： | 东南大学2025年1至3月政府采购意向 |
| 采购单位： | 东南大学 |
| 采购项目名称： | 反应离子刻 蚀机 |
| 预算金额： | 350.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A02102100教学仪器 |
| 采购需求概况 ： | 1. 硅：刻蚀温度:室温；刻蚀速率 ≥ 100nm/min ； 气 体 组 分 SF6,CHF3,CF4,O2,Ar ， 备 用 2 路；4 寸片刻蚀均匀性，如+/- 5%@100nm
2. SiO2：刻蚀温度:室温；刻蚀速率 ≥ 30nm/min ； 气 体 组 分 SF6,CHF3,CF4,O2,Ar ， 备 用 2 路；4 寸片刻蚀均匀性，如+/- 5%@100nm
3. 金属：刻蚀温度:室温；刻蚀速 率 ≥ 30~50nm/min ； 气 体 组 分 SF6,CHF3,CF4,O2,Ar ， Cl2 ， BCl3；4 寸片刻蚀均匀性，如+/- 5%@100nm
4. 三五族：刻蚀温度:室温或高温； 刻蚀速率≥100nm/min；气体组 分 SF6,CHF3,CF4,O2,Ar，Cl2， BCl3；4 寸片刻蚀均匀性，如+/- 5%@100nm |
| 预计采购时间： | 2025-02 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。