A02100402物理特性分析仪器及校准仪器

高压脉冲（HiPIMS）磁控溅射系统是一种超高真空、高压脉冲溅射沉积薄膜的设备，是目前最先进的溅射技术 HiPIMS是高功率脉冲电源，可产生比传统DC电源高数十倍的瞬间脉冲电流，所以得到的等离子体的浓度要大很多，从而加快沉积速度，形成更致密，光滑且高附着力的薄膜，能大幅减少缺陷。HiPIMS脉冲功率高，平均功率较低，使靶材有足够时间冷却，工艺稳定性好；传统溅射是通过提高靶材功率提高靶材的电离，增加的热负荷是其局限性，HiPIMS解决了这一问题。 设备在加热系统、气体控制系统、冷却系统方面都提出了更高的要求，以便更精确的控制薄膜中的氧空位含量及其它气体的掺杂量，获得气体含量、生长温度方面的规律。