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北京理工大学2021年7月政府采购意向-超高真空磁控溅射系统 详细情况
2021年06月13日 15:57 来源： 中国政府采购网 【打印】
| 超高真空磁控溅射系统 | |
| 项目所在采购意向： | 北京理工大学2021年7月政府采购意向 |
| 采购单位： | 北京理工大学 |
| 采购项目名称： | 超高真空磁控溅射系统 |
| 预算金额： | 160.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A02052402真空应用设备 |
| 采购需求概况 ： | 该系统用于超导薄膜Nb、NbTiN的制备；Nb膜超导转变温度可达到7.5K以上，NbTiN薄膜超导转变温度可达到12K以上；双腔体设计，腔体本底真空小于5x10^9 Torr，进样腔体本底真空小于1x10^-7 Torr；可实现基片射频清洗；配备4个2英寸磁控溅射靶枪；可实现N2反应溅射；镀膜均匀性4英寸内优于±3%。 |
| 预计采购时间： | 2021-07 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。