A02052402真空应用设备

(一)采购标的名称:高真空磁控溅射系统(二)采购标的需实现的主要功能或者目标:主要功能：可实现金属、氧化物及氮化物等薄膜的沉积。 仪器参数：1）工艺室：4个溅射枪端口，主室极限真空优于9×10-8Torr，沉积均匀性优于±5%（STD偏差）；2）抽真空泵组：1套涡轮泵和控制器以及1套油旋转真空泵；3）样品台模块（加热和旋转）：带有碳化硅涂层的4英寸加热器组件，最高温度≥800摄氏度；4）磁控溅射靶枪：2英寸直径磁控溅射源3套，磁铁外壳，靶枪度数可调；5) 射频电源1套，直流电源2套。(三)采购标的数量:1套(四)采购标的需满足的质量、服务、安全、时限等要求:1）货物收到后，由户指定地点和时间进行安装；2）在用户所在地对用户进行现场的操作/维护培训，直至掌握。培训内容包括仪器的技术原理、仪器操作、数据处理、仪器基本维护等。仪器交货后一周内，应用工程师到达现场进行培训；3）保修期：自验收之日起至少二年。4）维修响应时间：保修期内，在24小时内对用户的服务要求作出响应，维修服务包括电话指导和现场维修；需要现场维修的，卖方工程师应在72小时内到达仪器现场。5）交货期：6个月之内。