A02100305电子光学及离子光学仪器

聚焦离子束双束电子显微镜1套，主要用于金属、陶瓷、矿物、高分子、半导体、电介质、多层膜结构等固体样品上制备微纳结构；高质量定点TEM样品制备；化学和晶体结构三维形态分析；配合图形发生系统，能够完成任意图形纳米尺度的离子束、电子束刻蚀与沉积。1.聚焦离子束双束电子显微镜技术要求及参数:离子源种类：液态Ga离子源；交叉点分辨率：≤ 2.5nm @ 30kV;加速电压：最低加速电压500V, 最高加速电压为30 kV;分辨率：在最佳工作距离：≤ 0.6nm @ 15kV；≤ 1.0nm @ 1kV。 2. 纳米机械手漂移：<50 nm / min；最小步长：100 nm；五轴马达驱动样品台； X、Y方向移动范围不低于110mm；方向移动范围不低于65mm，可绕Z轴旋转任意角度 (360度)。3.该设备可与聚焦离子束双束电镜配套使用，用于材料的微区成分定性定量分析，并具备实时能谱面分布成像技术，随着样品的移动，实时刷新元素面分布信息。 4.电子背散射衍射仪（EBSD）：高速低噪音CMOS相机，分辨率1244*1024，EBSD在线解析标定速度不低于4500pps，最高同步扫描频率不低于5 MHz，电子束驻留时间最小增量≤1纳秒。交付时间：2023年12月之前。交付地点：广州。售后服务：整机质保2年以及全功能培训。