A02100309-激光仪器

（一）采购标的名称：规模化集成电路无掩模激光直写系统 （二）采购标需实现的主要功能或者目标 具备无掩模光刻直写，多层套刻直写，三维灰阶直写以及掩膜版制作功能。有效光刻面积不小于6英寸晶圆，最小线宽0.5微米以下，线宽均匀性100纳米以下，直写速度大于1mm2/min，对准精度低于400纳米，套刻精度低于500纳米；配备温控防尘罩，控制电脑及数据转换计算机及数据转换软件，具备自动聚焦功能，用于纳米、规模化半导体器件与电路加工制造。 （三）采购标的数量：1套 （四）采购标需满足的质量、服务、安全、时限等要求 合同签订并收到预付款或者LC后10个月内交货，自验收合格之日起质保期不少于一年。各项技术参数符合相关国家标准以及采购技术要求。须提供在售全新设备，不得为停产型号或翻新机。