当前位置：采购意向项目详情
清华大学2025年2至4月政府采购意向-低压化学气相沉积设备 详细情况
2025年01月16日 09:47 来源： 中国政府采购网 【打印】
| 低压化学气相沉积设备 | |
| 项目所在采购意向： | 清华大学2025年2至4月政府采购意向 |
| 采购单位： | 清华大学 |
| 采购项目名称： | 低压化学气相沉积设备 |
| 预算金额： | 685.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A-货物_A02000000-设备_A02050000-机械设备_A02052400-真空获得及应用设备_A02052499-其他真空获得及应用设备 |
| 采购需求概况 ： | 申请购置的低压化学气相沉积设备将用于硅基薄膜材料的生长沉积和退火等工艺，包括氮化硅、氧化硅、碳化硅材料等。其中配备的氮化硅、TEOS和热退火工艺是硅基光电子领域最常用的标准工艺和基础。
1. 适用于8英寸晶圆, 向下兼容，单管产能不低于50片。
2. 三温区，恒温区长度＞450 mm, 控温精度: ±0.5 ℃。
3. 极限真空≤10 mTorr；抽真空用时 < 10 min；漏率≤10 mTorr/min
4. 高温退火：工作温度≥1250℃
5. 膜厚均匀性指标：片内< 3%、片间< 3%、批间< 3% |
| 预计采购时间： | 2025-04 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。