A02052402真空应用设备

拟采购超高真空磁控溅射镀膜机1台。该设备由一个磁控溅射腔体、一个进样腔体和一个传动机构组成，溅射腔体包含6个溅射靶枪，进样腔包含5个样品位，传动机构包含一套送样机械手臂；溅射腔体极限真空优于5×10-10Torr，主要用于合金薄膜等电子功能薄膜材料超高真空制备。所需满足的主要指标参数为：（1）真空腔体结构：全密封超高真空304不锈钢圆柱型反应腔体，圆柱型腔室法兰采用金属密封+O型橡胶圈双密封机构；（2）磁控溅射靶枪：配置6个2英寸超高真空溅射靶枪，可以承受200℃烘烤和10-11Torr真空；（3）靶枪电源：配置2个直流靶枪电源，一个射频靶枪电源；（4）样品位：磁控溅射腔体内配备一个样品台，兼容4英寸及其以下尺寸的基片，样品台最高加热温度1000℃，PID温控精度±0.1℃；签订合同后要求9个月内到货，到货后1个月内完成安装调试及终验收。拟采购原子力显微镜1台，主要用于电子功能薄膜材料表面形貌及相互作用力的分析表征。签订合同后要求6个月内到货，到货后1个月内完成安装调试及终验收。