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清华大学2025年1至4月政府采购意向-超高真空多靶磁控溅射系统 详细情况
2025年01月16日 11:12 来源： 中国政府采购网 【打印】
| 超高真空多靶磁控溅射系统 | |
| 项目所在采购意向： | 清华大学2025年1至4月政府采购意向 |
| 采购单位： | 清华大学 |
| 采购项目名称： | 超高真空多靶磁控溅射系统 |
| 预算金额： | 260.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A-货物_A02000000-设备_A02050000-机械设备_A02052400-真空获得及应用设备_A02052402-真空应用设备 |
| 采购需求概况 ： | 本次采购的设备将用于制备外延氧化物等薄膜材料，也可以用于生长金属材料。这有利于简化样品的制备步骤，并且其可以同时生长氧化物和金属的特性有利于制备高质量的微波器件而免受空气中灰尘等对器件制备的影响。真空度10-7 Pa；最高加热温度700°C；加热区域6英寸；配备6个3英寸靶枪。制备纳米级单层及多层功能薄膜；可高通量、多元连续组分材料制备 |
| 预计采购时间： | 2025-04 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。