A032103电子工业专用生产设备

集成电路学院拟采购真空磁控溅射设备1套。 主要技术指标：要求至少配备6支4英寸磁控溅射靶枪，靶枪表面可独立供气，并考虑靶枪表面气体分布情况，可实现低气压靶枪工作，要求每个靶枪配备独立的准直筒和挡板，用于约束镀膜束流；要求每个靶枪要求配备独立水流量监控，防止靶枪过热；要求配套有2个300W射频电源，2个500W直流电源；预留扩充多支靶枪的空间；要求可实现至少8英寸样品镀膜，样品台可最高可加热至800°C，控温精度±1 °C，可实现5至20 rpm自动360度旋转；要求真空抽气系统为前级泵和分子泵组合，分子泵抽速要求至少430l/s，抽速至少520l/min；可全自动抽气。 交付时间：合同签订或收到发货通知30天内。 交付地点：中山大学深圳校区理学园。 售后服务要求:3年质保期，对所提供的货物在质保期内，因产品质量而导致的缺陷，必须免费提供包修、包换、包退服务。