A02052402真空应用设备

该设备的主要目的是实现高精度、高效率的分子原子材料镀膜。设备由底盘结构，基片架装置，蒸发源，控制软件，膜厚控制系统，真空室，真空系统等组成。底盘结构采用型材搭建或焊接式框架，外观要求氧化处理或喷漆，配可以打开的磁吸柜门，电气控制集成到底盘上，与真空腔体一体式；底部带有轮子，并带有可调节高度的支脚，带有机械旋转手臂，有多角度调节操作界面。基片装置需采用嵌入式结构固定基片托盘，通过电机来实现连续旋转。蒸发源需配备电子枪，要求含水冷装置。配备六个蒸发源位置，保证多样品的试验。需配备镀膜控制系统，大腔体真空室系统带自动抽气控制，带安全互锁功能。需实现自动化控制软件，采用工控机控制模式，相关的操作均在工控机界面完成。控制软件的真空系统分为自动和手动模式，可以随时切换。 带有一键自动蒸镀功能。