A02100305电子光学及离子光学仪器

用于软物质、金属、有机和无机半导体、多层膜结构的微纳加工和微纳结构研究、高质量定点全自动超薄纳米样品制备、大体积三维重构分析，离子束刻蚀、离子束沉积、电子束沉积和元素分析等需满足的要求：用于材料的二维和三维表征和分析。该系统将高分辨电子光学系统和精确的聚焦离子光学结合在一起，扩展了现有的实验表征和分析功能，提供更好、更快的材料表征、分析和样品制备，可以根据不同的材料选择不同的离子完成加工，使得各类材料获得最优的加工效果。具备四种离子源，可在Xe，Ar，O，N四种离子源轻松切换，离子束流强度：1.5 pA to 2.5 μA，具备单色化电子束系统，电子束分辨率：≤0.6nm @15kV; ≤1.0nm @ 2kV； 配备能谱仪与自动连续切片与图像、能谱三维数据自动记录功能，配备三维数据重构软件及相应高端工作站，具备可直接导入Bitmap/CAD文件，按照预先设定的间距，进行自动交替的离子束和束流沉积，加工复杂图形的能力。探测器包括全固态多通道可插拔电子探测器，可获取不同散射角度的背散射电子信号；分割可插拔扫描透射电子探测器，获取样品明场像、暗场像、高角环形暗场像；镜筒内探测器实现超高分辨二次电子和背散射电子图像。