A02052402真空应用设备

拟采购离子束刻蚀机设备1套，该设备主要功能是进行微纳米电子器件结构的刻蚀加工，还可用于电子功能薄膜的离子束清洗、材料表面终极抛光和材料减薄等，是制造微电子器件和集成电路的关键工艺设备，具备能量范围广、刻蚀精度高、均匀性高等技术优势，设备指标参数先进。设备配备了制冷系统和反应离子束刻蚀功能，用于开展电子科学与技术、电磁场与电磁波等本科专业的相关实践教学。主要指标包括：1、能量范围：0~1000eV；2、离子束流可调范围：0～130MA，离子能量和束流可实现自动匹配；3、刻蚀不均匀性：小于2%，离子束能量稳定度≤±2%/h；4、极限真空：8´10^5Pa；5、样品台旋转：0~20prm；6、刻蚀尺寸：4英寸。实验规模：预计每年面向300余名本科学生，开放3000机时。质保期三年；供货周期：90日；付款方式：合同签订后甲方收到乙方提供的符合甲方财务要求的全额发票后以银行转账的方式支付至乙方账户合同总价款的 70 %，剩余 30 %在甲方验收合格后向乙方支付剩余尾款。