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中国科学院高能物理研究所2025年10月政府采购意向-氧化硅薄膜沉积及刻蚀系统 详细情况
2025年09月09日 08:59 来源： 中国政府采购网 【打印】
| 氧化硅薄膜沉积及刻蚀系统 | |
| 项目所在采购意向： | 中国科学院高能物理研究所2025年10月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中国科学院高能物理研究所 |
| 采购项目名称： | 氧化硅薄膜沉积及刻蚀系统 |
| 预算金额： | 330.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A02339900 |
| 采购需求概况 ： | 采购氧化硅沉积和刻蚀系统各一套，其中氧化硅磁薄膜沉积系统使用交流射频溅射方式进行氧化硅的可控沉积，配备三靶位可供后续升级，4英寸不均匀度优于5%，衬底采用无氧铜旋转冷却；氧化硅刻蚀机采用ICP刻蚀，背氦制冷，配备激光反射型终点判断模块，4英寸不均匀度≤5%； |
| 预计采购时间： | 2025-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。