A021099其他仪器仪表

电子束光刻机应适用于高分辨率电子束光刻工艺，并可对纳米结构进行精确的成像度量。？电子束光刻机系统由真空系统、电子光学系统、样品室和样品台、用于成像和光刻扫描的偏转系统及图形发生器、计算机控制系统及系统控制软件等组成。 1.？硬件指标 ？？？？设备采用肖特基热场发射电子枪，可实现高分辨率电子束曝光及成像功能；加速电压20V-30kV，最小可调节步进为10V；束电流可调范围需要至少覆盖5pA~20nA；设备需配备静电束闸，用于控制电子束的通断，开关时间≤30ns；在20kV加速电压下，最小束斑直径≤1.6？nm；实验室温度波动在±0.5℃的情况下，束流可长时间稳定，任意八小时内测量束流稳定性≤0.5%。标配样品仓内离轴二次电子探测器，以及镜筒内二次电子和背散射电子双功能探头，用于标记识别和成像、测量；成像放大倍数范围至少覆盖20？~？1,000,000倍；写场大小可在0.5um？-？2mm的范围内任意设定，且连续可调，写场可进行旋转、正交、缩放修正，该修正可通过手动或自动方式实现；？图形发生器的扫描频率不低于20MHz，最小停留时间不大于50ns，最小停留时间增量不大于1ns；电子束曝光最小线宽≤？8nm，可制备周期≤40nm，线宽≤20nm的光栅；单写场套刻精度≤50nm(|mean|+3·sigma)；配备电动工作台，实现X、Y、Z三个方向的运动，运动行程范围不小于50mm×50mm×25mm，后期可在现场升级高精度激光干涉台，升级后工作台XY方向分辨率≤5nm，且拼接≤50nm(|mean|+3·sigma)；提供一台不间断电源，功率不低于6kW，供电时间需大于15分钟。 2.？软件指标 ？？？？基于Windows10操作系统的全自动控制软件包Nanosuite，集成GDSII编辑器，可对图形进行分层设计，允许导入DXF、ASCII、CIF等多种格式的文件；？？软件可实现多用户管理，每个用户可以单独设定和存储独立的文件、参数等；？具备成像度量功能，并可在在线或离线的状态下进行图形分析；多种扫描方式可供选择，至少提供矢量扫描模式、单像素点/线扫描模式、光栅扫描模式、圆形曝光模式四种电子束扫描模式，用户可根据实际需要灵活选择。