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中国科学院微电子研究所2023年8月政府采购意向-多功能干法刻蚀机 详细情况
2023年06月06日 18:54 来源： 中国政府采购网 【打印】
| 多功能干法刻蚀机 | |
| 项目所在采购意向： | 中国科学院微电子研究所2023年8月政府采购意向 |
| 采购单位： | 中国科学院微电子研究所 |
| 采购项目名称： | 多功能干法刻蚀机 |
| 预算金额： | 800.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A032199-其他电工、电子专用生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 标的名称：多功能干法刻蚀机。
多功能干法刻蚀机，用于GaN、SiC、Ga2O3、GaAs等化合物半导体和金刚石材料器件工艺中的选择性刻蚀、低损伤刻蚀、原子层刻蚀和陡直侧壁的刻蚀。刻蚀材料包括以上各种化合物半导体材料，以及器件和电路工艺中用到的SiN、SiO、AlN、HfO等介质，和各种光刻胶等。F基Cl等不同气氛刻蚀可紧密衔接。
具体包括：
刻蚀速率：
①GaN≥200nm/M 对胶选择比2,对SiO2选择比≥5；
②SiN 50-300nm/M (可调）剖面90±2°对胶选择比2；
③SiO2 100-300/M（可调）；对胶选择比2；
④SiC 50-500nm/M（可调）；
对SiO2选择比 ≥1.5:1；
样品尺寸：2-8inch；
片内均匀性 ≤±3%；
片间重复性≤±3%；
ALE 功能：0.5nm/Circle；
双工艺腔体。
设备采购数量为一套。质量保证期从签署最终验收报告之日起计算，保修期不少于1年。设备提供免费1年保修。卖方接到故障报告后 4-8小时予以电话响应并给出方案，如无法通过电话解决故障，将在 24小时内派驻北京工程师到现场解决问题，如有需要将在7个工作日内派原厂工程师到现场解决问题。 |
| 预计采购时间： | 2023-08 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。