A02052402真空应用设备

该设备需提供了一个受控、纯净且安全的操作环境，通过其高效的密封和净化系统，能够创造一个几乎无杂质的环境。要求具有真空控制系统，能够达到足够的真空极限值。需配备不少于四组的蒸发源，每组蒸发源得能独立控制。配备触摸和手自一体的操作系统能够实现一键蒸镀功能，水冷部件有分子泵、蒸发电极、膜厚仪探头、磁流体等，整机配水流报警保护系统。真空环境内要求水氧小于0.01PPM、洁净、温度控制。预留拓展接口。溶剂处理系统：需保证无任何溶剂污染真空腔室。