A032103电子工业专用生产设备

特气及尾气处理系统，数量：1套。 该设备用于对半导体工艺设备排出的有毒、有害、易燃易爆等危险气体进行处理，以达到国家排放标准，是实验室安全的重要保障设备，主要包含且不限于尾气有毒有害易燃易爆危险气体处理及冷却降温，HCl、HF、H2SO4、HCl等酸性气体吸收、碱液吸收等； 技术要求： 1、特气供应系统：含半导体工艺设备所需所有全自动气柜和惰性气体的气体组架，供应气体管道，危险气体侦测及报警系统等，合计供应高纯气体约20种，具体以工艺设备具体需求为准，含二次配等一切工艺设备安装及运行所需气体设施、条件等； 2、尾气处理：可处理SiH4、CH4、NH3、易燃易爆气体等所有使用气体，可中和HCl、HF、H2SO4、HCl等酸性气体吸收和碱性溶液； 3、尾气处理标准：达到国家排放标准； 4、工作时间要求：7x24小时工作不停机； 5、系统配置要求：包括且不限于特种气体供应、危险气体侦测、气体泄漏报警、危险气体远程关断等、尾气处理（燃烧水洗等）、酸吸收设施、碱吸收设施、必要一用一备排风机等； 售后服务要求:不少于2年质保期，对所提供的货物在质保期内，因产品质量而导致的缺陷，必须免费提供包修、包换、包退服务。