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中国科学院深圳先进技术研究院2023年2至3月政府采购意向-磁控溅射镀膜系统 详细情况
2023年02月22日 15:08 来源: 中国政府采购网 【打印】
磁控溅射镀膜系统 | |
项目所在采购意向: | 中国科学院深圳先进技术研究院2023年2至3月政府采购意向 |
采购单位: | 中国科学院深圳先进技术研究院 |
采购项目名称: | 磁控溅射镀膜系统 |
预算金额: | 150.000000万元(人民币) |
采购品目: | A033499其他专用仪器仪表 |
采购需求概况 : | 用途介绍:用于Au、Cr等金属以及介质材料的镀膜。
性能要求:
1、具有DC直流溅射能力、RF射频溅射能力、以及反应溅射能力,具有向下溅射系统;
2、具有等离子预清洗功能,1KW DC直流电源,300W RF射频电源;
3、真空能力:极限真空5 x 10-7Torr,20分钟可达到10-6Torr级别的工艺真空;
4、样品台:6”不锈钢射频偏压的旋转样品台,可支持最大6”晶圆或托盘(可放置多个小片),可快速选择优化的低速3RPM和和高速10RPM,样品台最高可加热到300C;
5、成膜:均匀性优于+/-2%
6、腔门带观察窗,便于观察溅射情况和放片/取片 |
预计采购时间: | 2023-03 |
备注: |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。