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中山大学2025年1月政府采购意向-中山大学电子与信息工程学院共溅射磁控溅射系统采购项目 详细情况
2024年12月02日 20:34 来源: 中国政府采购网 【打印】
中山大学电子与信息工程学院共溅射磁控溅射系统采购项目 | |
项目所在采购意向: | 中山大学2025年1月政府采购意向 |
采购单位: | 中山大学 |
采购项目名称: | 中山大学电子与信息工程学院共溅射磁控溅射系统采购项目 |
预算金额: | 208.000000万元(人民币) |
采购品目: | A02100503工艺试验机 |
采购需求概况 : | 设备名称:共溅射磁控溅射系统
数量:1套
用途:共溅射沉积Ti、Au、Cr、Al2O3和IGZO等材料。
技术要求(仅列主要,详见采购文件):
*1. 工艺腔体极限真空度优于 3 × 10E-7 Torr;
*2. 八英寸基片上镀膜均匀性优于± 3%(边缘5 mm不算);
*3. 样品台加热可达到800℃,控温精度±1℃;
*4. 镀膜工艺腔体配备对N2抽速不小于1000 /s的分子泵;
*5. 进样腔体配备对N2抽速不小于210 /s的分子泵,并且对N2的压缩比≥1 × 10E11;
*6. 镀膜工艺腔体配备高精度薄膜真空计,量程为10E-1 -10E-4 Torr;
Δ8. 镀膜腔和进样腔均需配备一个全量程真空计(量程:ATM-1×10E-9 mbar)和一个前级真空计(量程:ATM-5×10E-4 mbar);
*9. 配备4只4英寸磁控溅射靶枪,每只靶枪均兼容直流或者射频溅射模式。
*10. 配备1套300 W射频电源含自动匹配控制器;配备1套1对2 RF切换盒,射频电源可以在2个靶枪之间自动切换。
*11. 配备2套1000W直流电源,支持恒流、恒压、恒定功率三种输出模式,可远程自动控制。
具体要求详见采购文件。供货期:签订合同之日起,6个月内交货到采购人指定地点,具体事宜由成交供应商按采购人指定地点及时间安排要求执行。 |
预计采购时间: | 2025-01 |
备注: |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。