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西安理工大学2026年03月至2026年04月政府采购意向-多靶磁控溅射镀膜机 详细情况

2026年03月09日 13:51 来源: 陕西省政府采购网 打印

多靶磁控溅射镀膜机
项目所在采购意向: 西安理工大学2026年03月至2026年04月政府采购意向
采购单位: 西安理工大学
采购项目名称: 多靶磁控溅射镀膜机
预算金额: 68.000000万元(人民币)
采购品目:
采购需求概况 :
采购内容:多靶磁控溅射镀膜机 采购数量:1.0000台 主要功能或目标:用于精确制备单层或多层各类薄膜材料,以满足集成电路制造以及智能检测元器件研制中的金属电极、半导体薄膜和光学薄膜的材料制备需求 需满足的要求:支持金属材料、氧化物材料、半导体材料的溅射镀膜。设备采用镀膜室+送取样室的双腔室结构,配置三只溅射靶以满足制备多层薄膜材料的要求,配备一只离子源,用于样片表面的清洗和活化。Φ6英寸样片镀膜不均匀性小于±5%;基片控温范围超过500°
预计采购时间: 2026-04
备注:

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。