A02100499 其他分析仪器

原子层沉积设备用于各类粉体材料、平面样品表面的薄膜沉积。采购需要满足平 面样品的批量制备（2cm*2cm 样品片不少于 100 片/批次）；通过转动模块加装，可实现粉末样品的批量制备（ 1 克/批次）；惰性环境样品加装，即 ALD 设备与手套箱衔接，可应用于各类水氧敏感样品的 ALD 制造；反应器尺寸升级，平面样品最大可处理尺寸扩展为 60mm；平面样品薄膜沉积过程中可在反应器出 口加装石英晶体微天平用于薄膜沉积过程监控等。薄膜沉积过程控制精度达到 0.01-0.5 纳 米/周期，反应器内部平面基底表面薄膜厚度不均匀度不高于 2%，不同批次薄膜厚度不均匀度不高于 3%。设备整体采用模块化设计，后期可根据用户需求以较小代价对设备相关部件进行改装，实现常规功能扩充及某些特殊功能拓展，例如：扩充前驱体注入模块；在反应系统上加载膜厚仪、红外、质谱等原位表征装置；实现特异形状工件外壁或内壁薄膜沉积等。