A032103电子工业专用生产设备

光电材料与国家重点实验室拟采购无掩模板紫外光刻机一套。主要技术指标：375 nm 激光二极管/405nm 激光二极管双激光光源曝光；曝光精度（等间距线宽）0.5 μm；大范围样品观测2.6 mm × 1.7 mm，高精度投影镜头：200 mm2/min @ 0.5μm；高速投影镜头：1200 mm2/min @ 1.5μm；套刻参数：单画幅套刻精度：200 nm（指引光）；全画幅套刻精度：500 nm；套刻指引： 520 nm/660 nm，实时虚拟曝光投影，实现所见即所得。电动位移台参数：高性能无铁芯直线驱动电机，行程200 mm，步进精度：5 nm（直线光栅尺精度），双向重复定位精度±100 nm；支持基片尺寸：3 mm × 3 mm（最小）；200 mm × 200 mm（最大） 。交付时间：合同签订或收到发货通知30天内。交付地点：中山大学广州校区大学城校园纳米楼。售后服务要求：3年质保期。对所提供的货物在质保期内，因产品质量而导致的缺陷，必须免费提供包修、包换、包退服务。