A02100309-激光仪器

拟采购的双光子灰度刻蚀系统，主要用于HEPS光源修正入射光束波前误差，实现高相干成像或极限纳米聚焦的功能。其主要指标是可以加工三维立体亚微米器件，加工样品的最大高度不低于20mm，器件可以达到5nm及以下的表面平整度，形状精度Sa优于200nm。配备有光纤对准模组，其对准精度优于500nm(xy) ，共聚焦对准模组，其三维对准精度≤100nm(xy)/≤500nm(z) 。系统采用浸入式激光光刻技术，包含飞秒光纤激光器，其中心波长780nm ± 10nm，平均激光功率 ≥ 250mW，包含的振镜扫描系统具备超高精度的振镜扫描系统，单个有效写场最大直径不小于700μm，最高扫描速度不低于250mm/s，最大行程范围不小于50mm * 50mm *20mm。该能量调制的带宽不低于1MHz，调节级数4096级及以上。