A02052499其他真空获得及应设备

1、采购名称： 8英寸原子层沉积系统 2、采购标的需实现的主要功能或者目标：制备高性能致密薄膜，并可以通过控制反应循环次数来精准控制膜厚，应用于半导体器件，芯片，能源催化等相关领域。 3、采购数量：1台/套； 4、采购标的需满足的质量、安全等： 4.1采购配置： 4.1.1 8英寸原子层沉积主机1台（含高真空系统、供气系统、等离子体系统、计算机控制系统等）； 4.1.2配备真空脱气过滤系统，与手套箱连接接口。 4.1.3附件及零配件。国产配套手套箱。 4.2、需满足的技术指标 4.2.1. ALD反应腔需为热壁式设计，热壁加热温度≥270℃，确保对高比表面积、3-D微纳结构、粉末等样品获得全保型均匀沉积。 4.2.2.侧开式双硅胶环真空密闭舱门设计，双环之间抽真空避免前驱体泄漏，可以将ALD系统通过侧壁与用户的手套箱连用 4.2.3.薄膜不均匀性<±3% (1δ) 4.2.5.8套高速ALD阀门，最短吸合时间≤20 ms，8组前驱体气路，具备多种材料ALD沉积能力； 4.2.6.配套台式等离子体增强原子层沉积系统与手套箱连接接口，沉积过程无需暴露空气中。 5、服务：供应商应提供到场安装并进行相关人员培训服务。 6、时限：供货时间：合同签订12个月内完成安装并验收完毕。货物到达现场后，供应商应在使用单位人员在场情况下当面开箱，共同清点、检查外观，作出开箱记录，双方签字确认。供应商应保证货物到达采购人所在地完好无损，如有缺漏、损坏，由供应商负责调换、补齐或赔偿。 7、其他：技术交流联系人 ：周老师，18585413032。