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华南理工大学2023年2月政府采购意向-电子束曝光系统 详细情况
2023年01月28日 23:05 来源： 中国政府采购网 【打印】
| 电子束曝光系统 | |
| 项目所在采购意向： | 华南理工大学2023年2月政府采购意向 |
| 采购单位： | 华南理工大学 |
| 采购项目名称： | 电子束曝光系统 |
| 预算金额： | 110.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A02100699其他试验仪器及装置 |
| 采购需求概况 ： | 电子束曝光是利用电子束在光刻胶上扫描直接产生图形，具有可直接刻画亚微米级别的精细图案、高分辨率等优点，是实验室制作微小纳米电子元件的常用手段。在既有的扫描电子显微镜上安装图形发生器和电子束闸，就可以使得扫描电子显微镜具备控制电子束描绘图形的功能。
1. 硬件指标：
1.1. ▲基于PCI技术的图形发生器硬件，扫描频率为6 MHz, 且6MHz都可用于像素的自由选址。
1.2. 含有主动抗尖峰脉冲电路，对应温度微小漂移
1.3 ▲ 需配备6个 16位高速数据收集和控制系统，通过硬件精确修正写场的平移、倾斜、旋转等畸变，可以控制步长低于纳米量级，最小步距增量不大于0.1nm。
1.4. ▲可设定写场范围不小于0.5um x 0.5um ~ 2mm x 2mm
1.5. 提供配有法拉第杯的通用样品台， 采用卡钳的方式固定小样片，样品尺寸最大为20 x 20 mm。
1.6. 提供用于写场精细校准的CHESSY。
1.7. 提供电子束曝光工具箱，需配备常用工具、测试样品（涂有PMMA光刻胶的测试样品，显影液、定影液等）等。
1.8. 提供专业工作站一套，22寸平板显示器，已预装好Windows系统和专业的电子束曝光软件。
1.9 *需配置现有扫描电子显微镜GeminiSEM 500的配套电子束闸。
2. 软件指标
2.1. 多用户环境，每个用户可以使用独立的文件和参数。
2.2. ▲无缝集成GDSII编辑器，可对曝光图形进行分层设计（不低于64层），具有处理复杂图形的能力。
2.3. 数据输入格式可以为DXF, ASCII, CIF, etc
2.4. ▲提供多种扫描方式可供选择。提供圆形扫描模式，用于圆形或环形结构的扫描填充，保证图形边缘的光滑，以及低数据量的快速处理。
2.5. ▲可手动或自动方式完成套刻工艺。
2.6. ▲提供表面编辑模块，可直接在SEM图像上编辑图形，进行精确套刻功能。 |
| 预计采购时间： | 2023-02 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。