A02100309激光仪器

大面积高通量脉冲激光沉积系统（PLD）1套，该设备可在直径尺寸可达5英寸的基底上生长多功能氧化物外延薄膜，以原子尺度精确控制多层薄膜制备，并提供高通量材料设计与制备的平台；技术要求：1.基底最大尺寸：5英寸或3个英寸基底。2.基底最高温度：在氧气中所有基片材料可达950℃。压力可到400 托。3.温度均匀性：±4℃穿过直径5 英寸的硅基底4.工作压力范围：5*10-7 托为基数至500m 托。5.靶尺寸：1个直径为6英寸或者4个直径为2英寸的靶。6.基底到靶的距离可调： 50~100mm。7.目标激光束的标称入射角：60°。8.准分子脉冲激光器：脉冲功率不小于750mJ，频率50Hz, 波长248nm。9.光学系统：全封闭全自动扫描系统，包括激光快门的自动开/关，自动光圈调整光束尺寸，自动精细定位的运动镜支架。2023年12月之前。交付地点：广州。售后服务：整机质保2年以及全功能培训。