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清华大学2022年12月政府采购意向-介质材料反应离子刻蚀机RIE 详细情况
2022年11月30日 18:39 来源： 中国政府采购网 【打印】
| 介质材料反应离子刻蚀机RIE | |
| 项目所在采购意向： | 清华大学2022年12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 清华大学 |
| 采购项目名称： | 介质材料反应离子刻蚀机RIE |
| 预算金额： | 350.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A02100699其他试验仪器及装置 |
| 采购需求概况 ： | 拟采购介质材料反应离子刻蚀机RIE1台，技术参数需求：
SiO2 刻蚀
衬底4英寸SiO2晶圆
关键尺寸：10um 槽
刻蚀深度：2um
刻蚀速率不小于 25um/min
片内均匀性：小于5%
刻蚀形貌：大于 85°
对PR掩膜选择比：不小于 2.5:1
SiNx刻蚀
衬底4英寸SiNx晶圆
关键尺寸 10um 槽
刻蚀深度 2um
刻蚀速率：不小于 25nm/min
刻蚀形貌 不小于 85°
对SiO2掩膜选择比：不小于 1.5:1 |
| 预计采购时间： | 2022-12 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。