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吉林大学2022年11至12月政府采购意向-深硅刻蚀机 详细情况
2022年11月04日 08:26 来源： 中国政府采购网 【打印】
| 深硅刻蚀机 | |
| 项目所在采购意向： | 吉林大学2022年11至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 吉林大学 |
| 采购项目名称： | 深硅刻蚀机 |
| 预算金额： | 530.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A02052401真空获得设备 |
| 采购需求概况 ： | 刻蚀机的刻蚀深宽比、刻蚀速率和刻蚀粗糙度是深硅刻蚀工艺中最重要的指标，其刻蚀效果对最终器件性能有着决定性的影响。本次拟采购的深硅刻蚀机，需具备Bosch深硅刻蚀功能。
主要技术指标：
1.1 衬底8英寸或兼容2-8英寸
1.2下电极为静电吸盘或机械压环
1.3 6英寸片内均匀性≤5%
1.4刻蚀深宽比≥30:1
1.5 刻蚀速率≥2μm/min
1.6刻蚀粗糙度≤100nm
1.7 刻蚀垂直度≥88°±2°
1.8对光刻胶的选择比≥80:1
1.9 对氧化硅掩膜的选择比≥120:1
设备主要配置：
1等离子源:
1.1 ICP功率≥5000W
1.2 配有LF低频电源≥500W
1.3 配有RF射频电源≥300W
2 工艺腔体
2.1 设备为Al制腔体
2.2 腔室带有加热内衬
2.3 带有预真空室，且配有独立干泵。
2.4 采用机械压环结构或静电吸盘结构
2.5 样品台配有背氦冷却。
2.6 配备独立水冷机冷却样品台。
3 气路系统
3.1 可支持下列气体：大流量SF6，C4F8，Ar , O2， CF4；每路工艺气路均配置质量流量计MFC、颗粒过滤器和气动截止阀。
3.2 采用高速切换阀门和流量计，适用于Bosch工艺
3.3 至少配备5路工艺气体
4 真空系统
4.1 工艺腔体分子泵抽速≥2300L/s，工艺腔体前级干泵抽速≥480m3/h，样品进样室(load-lock)采用独立干泵
4.2 腔室极限真空优于3×10-6 Torr
5 控制单元
5.1配有计算机控制系统
5.2配有不同用户权限级别的设备控制软件
5.3设备控制配备齐全的软硬件联锁功能 |
| 预计采购时间： | 2022-12 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。